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沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營(yíng)：貴金屬材料
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背靶的選擇
對(duì)材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右
導(dǎo)電性好：常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；
強(qiáng)度足夠：太薄，易變形，2N金靶材哪家好，不易真空密封。
結(jié)構(gòu)要求：空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu)；
厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強(qiáng)；太薄，容易變形。
銦焊綁定的流程
1.綁定前的靶材和背板表面預(yù)處理
2.將靶材和背板放置在釬焊臺(tái)上，北京2N金靶材，升溫到綁定溫度
3.做靶材和背板金屬化
4.粘接靶材和背板
采用連續(xù)式硫化法的情況下，不會(huì)有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時(shí)橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi)，2N金靶材報(bào)價(jià)，另外能夠縮短制造時(shí)間和減少人工費(fèi)用，因此能夠降低輥筒的制造成本，從這些方面考慮，此方法優(yōu)于間歇式硫化法。
此外，硫化處理后，由于對(duì)每個(gè)輥筒都進(jìn)行了剪切，所以基本上不會(huì)出現(xiàn)上述差別，這樣就可緩解長(zhǎng)度方向的電阻值的不均勻。
磁控濺射靶材種類：金屬濺射鍍膜靶材，哪家有2N金靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），鉛靶材（PbAs），銦靶材（InAs）。
溫馨提示：以上是關(guān)于2N金靶材報(bào)價(jià)-沈陽(yáng)東創(chuàng)【用心服務(wù)】-北京2N金靶材的詳細(xì)介紹，產(chǎn)品由沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司為您提供，如果您對(duì)沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動(dòng)聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與冶煉加工相關(guān)的產(chǎn)品！
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第9年
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