




隨著芯片制程向7納米邁進,細微雜質對芯片的損害更為明顯,電子產業對高純電子氣體的純度要求進一步提高,在此背景下,我國高純四氟化碳生產技術與產品質量仍有提升空間。四氟化碳貯存注意事項:氣瓶使用和檢驗遵照《氣瓶安全監察規程》的規定。氣瓶內的氣體不能全部用盡,應該留不小于0.04MPa剩余壓力。我國人工智能、物聯網市場仍在不斷擴大,高純四氟化碳,光伏發電累計裝機容量不斷上升,預計2020-2025年,石家莊四氟化碳,我國高純四氟化碳市場需求將繼續以10.0%以上的增速增長。

以活性炭與氟為原料經氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中,緩緩通入高濃氟氣,四氟化碳價格,并通過加熱器加熱、供氟速率和反應爐冷卻控制反應溫度。四氟化碳,又稱為四氟甲1烷、Freon-14及R 14,是一種鹵代烴(化學式:CF4)。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲1烷、全氟化碳,也可以被視為一種無機化合物。它在大氣中的壽命約為50,000年,增溫(暖化)系數是6,500(二氧化碳的系數是1)。雖然結構與氟氯烴相似,但四氟化碳不會破壞臭氧層。

由碳與氟反應,或一氧4化碳與氟反應,或碳化硅與氟反應,或氟石與石油焦在電爐里反應,或二氟二氯甲4烷與氟4化氫反應,或四氯4化碳與氟化銀反應,或四氯4化碳與氟化4氫反應,都能生成四氟化碳。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-O2反應離子刻蝕時,四氟化碳批發,通過調節兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。



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