眾所周知,靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān),金粒誰家好,隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn),金粒報價,靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商.近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā),預(yù)計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜,這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外,近年來平面顯示器(FPD)大幅度取代原以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場.亦將大幅增加ITO靶材的技術(shù)與市場需求。此外在存儲技術(shù)方面。高密度、大容量硬盤,高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加.這些均導(dǎo)致應(yīng)用產(chǎn)業(yè)對靶材的需求發(fā)生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域,以及這些領(lǐng)域靶材發(fā)展的趨勢。







半導(dǎo)電膠輥通常用在復(fù)印機(jī)、電子傳真裝置等辦公設(shè)備中。半導(dǎo)電膠輥屬于半導(dǎo)電元件,且電阻值受環(huán)境影響較大,對產(chǎn)品的導(dǎo)電性要求極其嚴(yán)格,因?yàn)榇蛴〉娜^程是碳粉通過電場的壓力來實(shí)施,所以輕微的電性誤差將導(dǎo)致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現(xiàn)象。因此需精密的量測,故要求有一套高精密的量測系統(tǒng)來支持,方能達(dá)到產(chǎn)品的設(shè)計要求。

采用連續(xù)式硫化法的情況下,不會有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi),丹東金粒,另外能夠縮短制造時間和減少人工費(fèi)用,因此能夠降低輥筒的制造成本,從這些方面考慮,此方法優(yōu)于間歇式硫化法。

此外,金粒價格,硫化處理后,由于對每個輥筒都進(jìn)行了剪切,所以基本上不會出現(xiàn)上述差別,這樣就可緩解長度方向的電阻值的不均勻。
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