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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，貴金屬材料加工，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，貴金屬材料價格，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝?ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機械性能好，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品的缺氧率高。
人類社會的存在，科學技術(shù)的進步和發(fā)展，湖南貴金屬材料，已成為21世紀首要的戰(zhàn)略儲備物資，且與各國的政治經(jīng)濟和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應用領(lǐng)域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學制品，已被廣泛應用到冶金鋼鐵，石油化工，有機化工，化工，電子電器，汽車制造，光學玻璃，玻璃纖維。
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第9年
