二氧化硅膜厚測試儀主要采用的是光學干涉測量原理。具體來說，當單色光垂直照射到二氧化硅膜層表面時，光波會在膜的表面以及膜與基底的界面處發(fā)生反射。這些反射光波之間會產生干涉現(xiàn)象，即光波疊加時，其強度會增強或減弱，取決于光波的相位差。在測量過程中，當兩束反射光的光程差是半波長的偶數(shù)倍時，會出現(xiàn)亮條紋；而當光程差是半波長的奇數(shù)倍時，則會出現(xiàn)暗條紋。膜厚儀會記錄這些干涉條紋的數(shù)量，并結合入射光的波長和二氧化硅的折射系數(shù)，利用光的干涉公式來計算得到二氧化硅膜的厚度。此外，二氧?枘ず癲饈砸塹牟飭烤群芨擼蛭繕嬉鞘怯霉獠ǖ牟ǔのノ煥床獾霉獬灘畹?，所覄蛭簱擘小的光碁╊变化端E岷芰槊艫匾鷥繕嫣蹺頻鈉?。这种偏移可覇T瘓凡飭?，磦蝤实现哆h躉枘ず穸鵲木凡飭俊?/p>綜上所述，二氧化硅膜厚測試儀通過利用光學干涉測量原理，能夠實現(xiàn)對二氧化硅膜厚度的精確、快速測量，為相關領域的科研和工業(yè)生產提供了重要的技術支?幀?/p>