膜厚測試儀的測量原理主要基于光學干涉原理。當一束光照射到薄膜表面時，部分光被薄膜反射，而另一部分光則穿過薄膜后再次反射。這兩束光在再次相遇時會發生干涉現象。通過觀察和測量這些干涉條紋的位置和數量，可以精確地計算出薄膜的厚度。具體來說，膜厚測試儀采用反射式或透射式測量方式。反射式膜厚測試儀通過測量薄膜表面的反射光干涉條紋來確定薄膜厚度，而透射式膜厚測試儀則是通過測量穿過薄膜后再次反射的光干涉條紋來確定薄膜厚度。這兩種方式各有優缺點，可根據具體的測量要求選擇合適的膜厚測試儀。此外，膜厚測試儀不僅可以測量薄膜的厚度，還可以測量薄膜的一些其他重要光學參數，如復折射率、吸收系數、表面平整度等。這些參數的測量有助于研究薄膜形成的動力學過程以及外界因素（如溫度、壓力、電場等）對薄膜形成的影響。總之，膜厚測試儀基于光學干涉原理，通過測量干涉條紋來確定薄膜的厚度，具有高精度和廣泛的應用范圍。在科研、生產和質量控制等領域中，膜厚測試儀發揮著重要的作用，為薄膜厚度的精確測量提供了有效的手段。