光學鍍膜膜厚儀的測量范圍取決于其設計、精度以及所使用的技術。一般而言，這種儀器能夠測量非常薄的膜層，其測量范圍通常涵蓋納米到微米級別。對于具體能測多薄的膜，這主要受到儀器分辨率和校準精度的影響。高精度的光學鍍膜膜厚儀通常具有很低的下限測量值，可以檢測到納米級別的薄膜厚度。這使得它們在薄膜科學、光學工程、材料研究等領域中非常有用，能夠準確測量各種光學元件上的薄膜厚度，如反射鏡、透鏡、濾光片等。然而，需要注意的是，測量非常薄的膜層時，可能會受到多種因素的影響，如表面粗糙度、基底材料的性質以及測量環境等。這些因素可能導致測量結果的誤差或不確定性增加。因此，在進行薄膜厚度測量時，除了選擇合適的膜厚儀外，還需要對測量條件進行嚴格控制，以獲得準確可靠的結果。總的來說，光學鍍膜膜厚儀能夠測量非常薄的膜層，具體測量范圍需要根據儀器的性能和應用需求來確定。如需更多信息，建議查閱相關文獻或咨詢光學鍍膜膜厚儀的制造商或供應商。